산업용 전기 전자 산업의 절연 플라스틱

역동적인 시장 속에서의 성장

전기 및 전자 기기 제조에는 필수적인 부품들과 함께 여러 가지 화학 제품이 필요합니다. SONGWON은 관련한 기반 산업의 중요성을 일찍 인식하였으며, 특히 2012년부터 반도체 제조에 필요한 감광성 소재의 원료인 고순도 모노머 생산을 시작하였습니다.

이후, 급변하는 전자 재료 시장에서 꾸준한 혁신을 통해 최첨단 디스플레이와 터치 패널 제조, 집적 회로(IC) 설계 및 생산, 새로운 5G 통신 프로토콜용 PCB (인쇄 회로 기판)에 적용되는 소재용 화학 제품의 포트폴리오를 갖추게 되었습니다.

포토리소그래피 – 전자 산업의 핵심 기술

SONGWON은 감광성 수지 생산에 사용되는 고순도 모노머를 생산하고 있습니다. 이러한 수지는 포토레지스트라 불리는 광감응형 Lithograghy공정 재료로 이용됩니다. 마스크를 통해 선택적으로 통과한 빛은 해당 공정에서 고해상도의 패턴을 구현할 수 있습니다. 해상도가 높을수록 모든 재료들은 극한의 순도를 필요로 합니다.(예: ArF 및 EUV 리소그래피의 나노미터 스케일 패턴).

SONGWON은 독자적인 중합 기술을 이용하여 폴리하이드록시스티렌을 기반으로 하는 일련의 수지를 개발했습니다. I-line과 KrF-line 포토레지스트용 상용 제품도 있지만, 당사는 최첨단 반도체 생산 또는 디스플레이와 터치 패널 구조에 있어서 고객의 요구 사항을 충족시키기 위한 맞춤형 코폴리머 제작을 전문으로 합니다.

포토레지스트의 또 다른 중요한 구성 요소는 감광성 재료 입니다. 이는 특정 파장의 빛과 상호 작용하여 라디칼, 강산 또는 강염기 같은 활성 종을 형성합니다. 특히, SONGWON은 산업용 생산 규모를 갖추고 경쟁력 있는 가격으로 최고 순도의 광산 발생제(Photoacidgenerator)를 생산하고 있습니다. 광산 발생제는 디스플레이, 센서와 같이 비용에 민감한 응용 분야에서 화학 증폭형 레지스트의 가성비를 향상시킵니다.(광개시제(Photoinitiator)는 솔더 마스크, 디스플레이 레지스트, 클리어코트 등과 같은 전자 재료 중의 하나입니다.- 생략가능)

지난 5년 동안, 포토리소그래피는 IC 패키징에 상업적으로 도입되었으며, 3차원 구조의 IC 제조 공정으로 성장하도록 하여 회로 기판 위의 전체 IC의 풋 프린트를 미세하게 제작함으로써, 납 프레임과 결합 와이어를 대체하고 있습니다. 당사의 고성능 단위체와 PHS 기반 수지는 고온과 산성에 강한 패터닝이 가능하게 합니다.

당사는 잘 알려진 UV 흡수제와 항산화제 생산 업체로서 투명하고, 쉽게 용해되며, 무색인 UV 흡수제를 다수 공급하고 있습니다. 이는 UV 스펙트럼의 전체 범위를 커버하여, 내열성이 요구되는 광학 필름에 적용되고 있습니다. 이런 특성은 디스플레이 재료의 필수적인 요소입니다.